*小允许搅拌量:300mL;*小允许乳化量:500mL;*大允许工作量:1000mL;*高允许工作温度:200mm;支架升降方式:手动升降架; 反釜系统(含反应釜系统,搅拌系统,高剪切分散乳化系统,温度控制系统,真空系统、真空泵、水浴)